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氧化炉,扩散炉,LPCVD设备厂家LOGO

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主要产品有：氧化炉，扩散炉，LPCVD，HVPE，特气柜、尾气处理等半导体气体处理配套，石墨烯，氢气炉，热处理炉等真空热处理设备等。

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  • 半导体工艺设备

    半导体工艺设备

    模块化、自动化可扩展、高可靠

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  • 特气&废气处理

    特气&废气处理

    处理半导体工艺过程中产生的废气,如氯气、氟化物、氯化物等

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  • 真空/气氛炉系列

    真空/气氛炉系列

    适用于高性能钐钴、钕铁硼等磁性材料的烧结、退火、扩散渗镝、渗铽等工艺

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  • 工厂自动化及升级改造

    工厂自动化及升级改造

    设备及工厂生产自动化工业4.0

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氧化炉，退火炉
高温退火炉（2200）
氧化炉
12”氧化LPCVD炉(生产型）
氧化炉，LPCVD
8"氧化LPCVD炉(生产型）
氧化炉，扩散炉，LPCVD
全自动氧化扩散LPCVD炉
LPCVD废气处理
燃烧（电）+湿法废气处理机系列
HVPE废气处理
湿法废气处理机系列
PECVD废气处理
等离子体废气处理机系列
气瓶架，气瓶柜
气瓶架
热处理炉
水平管式炉（手套箱）
渗镝炉
立式真空管式炉
真空烧结炉
设备及工厂生产自动化_工业4.0

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  • 2009年
    成立时间
    J
  • 8000㎡
    净化厂房
    C
  • 30年
    研发经验
    M
  • 30+
    专利技术
    E
  • 1000+
    用户数量
    E

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