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12”氧化LPCVD炉(生产型)

产品性能:

 ◆垂直结构,高效产能,100~125片/批

 ◆稳定优良的成膜均匀性,重复性好

 ◆高精度可靠的自动压力控制系统

 ◆微环境低氧控制先进技术

 ◆硅片颗粒度控制稳定,国际标准

 ◆全自动流程,AGV/OTH对接

 ◆高集成度,完整的工厂MES系统对接

 ◆符合SECSⅡ/HSMS/GEM等标准

 配套工艺:

 ◆氧化(干湿氧)、退火(N2,H2,快速退火)

 ◆多晶硅P-Si,氮化硅Si3N4,氧化硅SiO2

 ◆磷硅玻璃PSG,硼磷硅玻璃BPSG

 ◆TEOS,LTO,HTO,SIPOS...


氧化炉,LPCVD

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