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采用等离子体、电热燃烧方式，内部喷淋水/配液循环，液体成分监测、具有自动补水补液
特气柜（气瓶柜）、气瓶架、配比柜等：半导体制造行业易燃、易爆、腐蚀性、高纯等特气供应配比系统。
LPCVD、PECVD、刻蚀等的废气处理，采用电热/气燃烧方式，内部喷淋水/配液循环，液体成分监测、具有自动补水补液
应用于半导体行业LED、多用于MOCVD、HVPE（GaN工艺）废气处理，多级喷淋，使易溶于水或配置溶液反应生成沉积的物质，以达到有毒腐蚀气体的回收，达标气体的安全排放
“热解”+“分解”方式，节能、高效处理太阳能电池PECVD等设备的废气，将SiH4进行高温热解，将NH3直接进 行分解，无需氨水处理，无需燃烧。
特气柜（气瓶柜）、气瓶架、配比柜等：半导体制造行业易燃、易爆、腐蚀性、高纯等特气供应配比系统。
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