氧化炉,扩散炉,LPCVD设备厂家LOGO

产品&服务
首页 > 产品&服务 > 真空/气氛炉系列 > 其它真空气氛炉

小双室

产品性能:

◆高真空度,极限真空优于6.0×10-4Pa

◆快冷、真空、气氛等控制,满足客户特殊工艺要求

◆工作温度:500-1000℃/1200℃,高可靠性,高重复性

◆优化的反应室结构设计

◆温度串级控制,更好的保证恒温区的稳定性

◆研发型/小批量生产:10-30kg/炉

同类推荐

相关新闻

精良的科研 · 设计 · 制造 · 服务团队

以客户为天 以员工为地 以质量为本 以创新为魂 严爱相济 内方外圆

版权所有 ©2023 青岛华旗科技有限公司鲁ICP备18050447号-1

网站地图 技术支持:华夏商务网

微信咨询

电话咨询

在线留言

在线留言

请留下联系方式以便我们尽快解决您的问题