4008-110044
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专业半导体装备制造
产品性能：
◆高真空度，极限真空优于1.0×10-3Pa，配备数字式真空计
◆快冷、真空、气氛等控制，满足客户特殊工艺要求
◆工作温度：500-1200℃/1500℃/2400℃，高可靠性，高重复性
◆优化的反应室结构设计，扩渗回火连续进行，更快更稳定的降温速率
◆生产型：50-100Kg/炉，300kg/炉
◆真空室采用恒温区多段控制，温度串级控制，更好的保证恒温区的稳定性
◆恒温区精度：≥1200℃/500mm±2℃
◆温度测控精度：≤±1℃
◆冷却速率：1200℃~800℃小于10分钟
◆控制系统：具备温度测量控制、工艺曲线记录及实验全过程全自动控制功能
◆监测系统：具备超温、超压、断水等报警功能
◆压升率：≤0.67 Pa/h
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