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专业半导体装备制造
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◆高真空度，极限真空优于1.0×10-3Pa
◆快冷、真空、气氛等控制，满足客户特殊工艺要求
◆工作温度：500-1000℃/1500℃/2400℃，高可靠性，高重复性
◆优化的反应室结构设计，扩渗回火连续进行，更快更稳定的降温速率
◆生产型：50Kg/炉，100Kg/炉，300kg/炉
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